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著錄信息

  • 專利名稱:溝槽式金屬氧化物半導體場效應晶體管及其鍵合方法
  • 專利類型:發(fā)明
  • 申請?zhí)枺?/em>CN200810216746.0
  • 公開(公告)號:CN101383304B
  • 申請日:20081017
  • 公開(公告)日:20110525
  • 申請人:深圳市晶導電子有限公司
  • 發(fā)明人:賴輝朋,何建歡,高燕輝
  • 申請人地址:518101 廣東省深圳市寶安區(qū)新安街道留仙二路鴻輝工業(yè)園3號廠房1-4層
  • 申請人區(qū)域代碼:CN440306
  • 專利權人:深圳市晶導電子有限公司
  • 洛迦諾分類:
  • IPC:H01L21/607,H01L23/488
  • 優(yōu)先權:
  • 專利代理機構:廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 44224
  • 代理人:曾旻輝
  • 審查員:王丹
  • 國際申請:
  • 國際公開(公告):
  • 進入國家日期:
  • 分案申請:

關鍵詞

金屬氧化物半導體場效應晶體管,銅絲,焊接,銅線,超聲,焊球,鍵合,芯片,熔化,導電性能,金絲,球焊,禁區(qū)
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