著錄信息
- 專利名稱：拋光磚的微粉雕刻布料方法及裝置
- 專利類型：發(fā)明
- 申請?zhí)枺?/em>CN201310187858.9
- 公開(公告)號：CN103273566B
- 申請日：20130520
- 公開(公告)日：20151014
- 申請人：廣東宏威陶瓷實業(yè)有限公司,廣東宏陶陶瓷有限公司
- 發(fā)明人：梁桐燦,張志賢,丁英美,歐陽志遠
- 申請人地址：511533 廣東省清遠市源潭陶瓷工業(yè)城二期開發(fā)區(qū)
- 申請人區(qū)域代碼：CN441802
- 專利權(quán)人：廣東宏威陶瓷實業(yè)有限公司,廣東宏陶陶瓷有限公司
- 洛迦諾分類：無
- IPC：B28B13/02,B44B3/00
- 優(yōu)先權(quán)：無
- 專利代理機構(gòu)：佛山市南海智維專利代理有限公司 44225
- 代理人：梁國杰
- 審查員：李倩
- 國際申請：無
- 國際公開(公告)：無
- 進入國家日期：無
- 分案申請：無
關(guān)鍵詞
電腦雕刻機,粉料,雕刻,面料,雕刻圖案,線條圖案,模腔,線條,磚坯,二次布料裝置,絲網(wǎng)印刷方法,絲網(wǎng)印刷技術(shù),絲網(wǎng)印刷機,邊界清晰,邊緣清晰,布設(shè)基礎(chǔ),二次布料,粉料填充,平整壓制,圖案定位,線條位置,預(yù)設(shè)圖案,職業(yè)環(huán)境,布設(shè),拋光磚,色粉料,填充量,相吻合,絲網(wǎng),底料,雕空,和粉,加裝,微粉,揚塵,一種,布料,填充,逼真,精細,移動,準(zhǔn)確,公開,減少,改善,明顯
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