盛美半導體設(shè)備（上海）股份有限公司（以下簡稱“盛美上海”）成立于2005年，是上海市政府科教興市項目重點引進的集成電路裝備企業(yè)，是具備世界先進技術(shù)的半導體設(shè)備制造商。

盛美上海集研發(fā)、設(shè)計、制造、銷售于一體，為全球客戶提供高端半導體設(shè)備。主要產(chǎn)品有單晶圓及槽式濕法清洗設(shè)備、電鍍設(shè)備、無應力拋光設(shè)備、立式爐管設(shè)備、前道涂膠顯影設(shè)備及PECVD設(shè)備等。

盛美上海堅持差異化競爭和創(chuàng)新的發(fā)展戰(zhàn)略，通過自主研發(fā)的單片兆聲波清洗技術(shù)、單片槽式組合清洗技術(shù)、電鍍技術(shù)、無應力拋光技術(shù)和立式爐管技術(shù)等，向全球晶圓制造、先進封裝及其他客戶提供定制化的設(shè)備及工藝解決方案，有效提升客戶的生產(chǎn)效率、提升產(chǎn)品良率并降低生產(chǎn)成本。

公司具有高新技術(shù)企業(yè)資質(zhì)，連續(xù)多年被評為“中國半導體設(shè)備五強企業(yè)”，先后承擔多個國家科技重大專項項目的主要課題的研發(fā)。盛美上海立足自主創(chuàng)新，通過多年的技術(shù)研發(fā)和工藝積累，成功研發(fā)出了SAPS/TEBO兆聲波清洗技術(shù)和Tahoe單片槽式組合清洗技術(shù)，應用于28nm及以下技術(shù)節(jié)點的晶圓清洗領(lǐng)域。SAPS和TEBO解決了兆聲波清洗技術(shù)在單片清洗設(shè)備上應用的兩大難題；Tahoe單片槽式組合清洗設(shè)備相比現(xiàn)有單片清洗設(shè)備大幅減少了硫酸的使用量，在幫助客戶降低生產(chǎn)成本的同時，滿足了節(jié)能減排的要求。

盛美上海憑借先進的技術(shù)和豐富的產(chǎn)品線，已發(fā)展成為中國大陸少數(shù)具有一定國際競爭力的半導體專用設(shè)備提供商，產(chǎn)品得到眾多國內(nèi)外主流半導體廠商的認可，并取得良好的市場口碑。